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累積失效率和MTBF [複製鏈接]

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發表於 2014-5-9 19:28:04 |顯示全部樓層
本帖最後由 hlperng 於 2014-5-9 23:18 編輯

若 IC 的失效發生時間或壽命用韋伯分布來描述,韋伯分布的 MTBF 與 尺度參數 η 及形狀參數 β 之間的關係為:



案例提到的形狀參數分別為 β=4.1978 及 β=4.2860,此一狀況的機率密度函數已經接近常態分布,這代表什麼意思?是否在應用上有所考量,可靠度是工程問題,雖然數學計算很重要,但是畢竟數學只是工具而已。IC 是由很多 電晶體 或 閘門所建構而成,雖然從體積上看是零件,事實上已經超越系統層級,以形狀參數為 4 ,近乎單純材質所建構的物品,以上千上萬的積體電路單元所構成的 IC 來說,這算是蠻有趣的實驗數據。

另外,設計前的尺度參數 η=10.3667,經過半年(0.5)後,新設計的尺度參數 η=250.5334,增加 25 倍,算是很高超的可靠度成長績效,這樣的結果,與組織的工程和管理努力的關聯性為何?是否在設計審查時,去除調許多體質較弱,亦即特徵壽命較短的元素,使最後成品的平均失效發生時間或壽命增加,這也是蠻有趣的工程改進議題,勢必涉及相當程度的設計變更作業。


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